不純物分析
- SIMS (二次イオン質量分析)
- GDMS (グロー放電質量分析)
- ICP-OES (高周波誘導結合プラズマ発光分析)
- LA-ICP/MS (レーザー照射型 誘導結合プラズマ質量分析)
- IGA (ガス成分分析)
- TOF-SIMS (飛行時間型二次イオン質量分析)
- TXRF (全反射蛍光X線分析)
- LEXES (低エネルギーX線分析)
- SRP (広がり抵抗測定)
- GCMS (ガスクロマトグラフ質量分析)
組成分析
形態観察 / 構造解析
ORS社分析サービス
ICP-OES (高周波誘導結合プラズマ発光分析)
ICP-OESの原理
高周波エネルギーにより発生させたアルゴンの高温プラズマの中心部でネブライザーにより溶液試料を注入して発光させる。この光に含まれている試料中の各元素に特有のスペクトル線を分光し、それぞれの強度の測定値から各元素の含有量を定量する。
ICP-OESの特徴
- プラズマの高温度領域で励起されるので、その工程における化学干渉が低く複雑な材料の分析が可能。
- 微量レベルから主成分に近い高濃度レベルまでの測定が可能。
測定対象試料
- セラミックス, ガラス, アルミナ, BN(窒化ホウ素), セメントなど
- 金属, 合金, 貴金属, 鉄鋼, 真鍮など
- 試薬, 触媒, 工業用水など
ICP-OESによる主成分測定事例
