NiCr-3 NiCr深さ方向分析スタンダード
NiCr-3は、イオンビームスパッタリングによる界面分解能を評価するための標準試料です。NiCr-3は、NISTによるSRM-2135と類似した商品です。（SRM-2135は、５層のCrと４層のNiからなる試料です。）
NiCr-3の総構造は、Siウエハ上に６層のCr（53nm）と６層のNi（64nm）を積層させています。
NiCr-3とSRM-2135の典型的データは添付ページを参照ください。
| ■ 試料サイズ | 1ｘ3 cm | |||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| ■ 成膜条件 | 1x10-4 torr Ar分圧下、Ni（純度99.9％）及びCr（純度99.9％）をイオンスパッタデポジション法にて堆積。 ＊微量のAl（1.3％）、Fe（2.7％）、Mo（1.0％）を含む。 |
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| ■ 総膜厚 | 754nm ＊400μｍ径のクレータをスパッタリングによって開口、クレータ深さを触針段差計（Deltak3030）により測定し、決定。 |
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| ■ 膜厚面内ばらつき | 約± 2％ | |||||||||||||||||||||||||||||||||||
| ■ 界面幅 | Niの分布傾斜の10－90％から決定。（NiCr-3とSRM -2135aの比較データを示す） ＊数値はすべてnm単位。
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＜典型的データ＞分析条件：3keV Arビーム、ザラー回転試料ステージ
