ESCA,AES,EPMA用スタンダード
イオン・スパッタリング用スタンダード
顕微鏡用倍率補正スタンダード
- MRS-3 仕様
- MRS-3-ITO 仕様
- MRS-4 仕様
- MRS-5 仕様
- MR-1 仕様
真空容器VUS-J
顕微鏡用倍率補正スタンダード MRS-5仕様
倍率2,500倍～1,000,000倍に対応。
■ パターン構成
| Pattern | ピッチ間隔 （線と隙間部分の幅） | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 巣状Box | 2μm | 1μm | 500nm | 200nm （4個） |
100nm （4個） |
80nm （4個） |
| 3バーパターン | 3μm | 2μm | 1.5μm | 1μm | 900nm | 800nm |
| 700nm | 600nm | 500nm | 400nm | 300nm | 200nm | |
| 100nm | 80nm | |||||
■ 仕様
- サイズ：2mmx2mmx0.5mm
- 材質：SiO2/Si基板上にタングステン膜(100nm厚さ)のパターン
- ピッチ定義：線とスペースを合わせた距離
- 6種の巣状Boxパターン、1種の1μm ピッチテストグリッド、14種のバーパターン
- トレーサブル品（MRS-5、キャリブレーション付）または、ノントレーサブル品（MRS-5NT,キャリブレーションなし）の２種類
- 表面カーボンコーティングあり、なしの選択可能。コーティング膜厚：10nm
■ 較正
MRS-5は、英国国立物理研究所（NPL）によって較正されています。NPLは米国NISTと類似した機関です。10nmピッチパターンにおいて、精度は±3.6nmです。
