SIMS標準試料及びESCA,AES,EPMA用スタンダード販売のナノサイエンス

• 採用情報
• ｜
• サイトマップ
• ｜
• ホーム

顕微鏡用倍率補正スタンダード MRS-4仕様

スケール仕様	最密ピッチ パターン	0.5μm、1μm、2μm、50μm、500μm
	精度	±　0.25μm（500μmピッチ ± 0.1μm（50μm、2μmピッチ） ± 0.04μm（1μm、0.5μmピッチ）
パターン高さ	0.1μm
外　形	9.0x9.0x2.3mm（サイズの変更も可能）
適用倍率	10倍～200,000倍
適用顕微鏡	SEM（二次電子像、反射電子像）,　TEM（反射電子像）、AFM,　STM、触針段差計、光学顕微鏡
適用補正	ディストーションの補正 ティルトアングルの補正 CRTとレンズ焦点補正
基板	石英ガラス上にCr（70nm)/CrO2(30nm)の膜パターンニング
校正書 （ＭＲＳ－４ＸＹの場合）	ＮＰＬ、ＮＩＳＴによって校正されたﾏｽﾀｰ試料（標準試料)を用いて、500μｍ50μｍ、2μｍ、1μm、0.5μｍﾋﾟｯﾁﾊﾟﾀｰﾝの測定データを提供。

詳細パターン例

■ MRS-4、各パターンの位置

ピッチとは、「ライン＋スペース」の合計を表す。

校正書例と説明

2μｍピッチパターン配置と測定方法

測定は最外ラインの内側から始めて、（スペース＋次のライン幅)＝１ピッチとみなし、内側に向かって8ピッチ測定します。それらを左、右、上、下それぞれで測定します。

50μｍピッチパターン内部に3つ配置されています。

リテーナーにマウントされた状態

■ SEM用リテーナー：MRS SEM/R

• リテーナーサイズ：25mm径ｘ3mm厚
• 中心部の9mm角のくぼみに、MRS（9mm角)が固定されています。
• 特注サイズのリテーナー作製可能。（別途見積り）

■ 光学顕微鏡用リテーナー：MRS OMR（特注）