表面分析受託サービスのナノサイエンス

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Siウェーハ上の金属汚染分析について (Surface-SIMS, TXRF)

Surface-SIMS.XP^TM分析

■ 特徴

• H～Uまで分析可能
• ほとんどの金属元素はE8-9atoms/cm²まで検出可能
• 微小部分析が可能（最小50μm x 50μmエリアまで分析可能）
• 最表面の深さ分布を分析可能
• フルウェーハ分析は不可
• ASTM Method（F1617-98）：Al、Na、KおよびFe
• 精度：～10% RSD
• 分析可能な基板：Si, SiO2およびSiC

ベアSiウェーハ表面のAl汚染

■ 分析例：P注入時のAl汚染深さ濃度分布